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4001027270
用于單晶硅、多晶硅、藍寶石、液晶玻璃、鏡頭等拋光。
二.產品特點
1.采用嚴格的粒徑控制工藝,具有純度高、粒徑均勻、易清洗、無橘皮、無霧化現象、拋光速率高、損傷層小等優(yōu)點。
2.可直接稀釋使用,對拋光設備無腐蝕。
三.性能指標
指標名稱 |
型號及標準 |
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CMP30 |
CMP50 |
CMP80 |
CMP100 |
CMP150 |
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粒徑(nm) |
20-40 |
40-60 |
60-90 |
100-130 |
140-170 |
外觀 |
乳白 |
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SiO2含量(重量) |
30~40% |
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分散介質 |
水 |
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pH值 |
2-11可調 |
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保質期(月) |
≥12 |
四.使用方法
1.可根據拋光操作條件用去離子水進行稀釋。
2.稀釋后,粗拋時調節(jié)pH至11左右,精拋時調節(jié)pH至9.5左右。pH調節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。
3.循環(huán)拋光可以用原液。
五.包裝及儲存
1.采用聚乙烯塑料桶包裝,主要包裝規(guī)格有25Kg、250Kg、1000Kg。
2.避免曝曬,貯存溫度為5-40℃,低于0℃則產生凍膠而報廢。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
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