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    CHINAPONY中普尼勻膠機(jī)CPN-KW-4A型號(hào)簡(jiǎn)述:(小面積基片標(biāo)準(zhǔn)涂覆范圍)

    產(chǎn)品品牌

    CHINAPONY 中普尼

    規(guī)格型號(hào):

    CPN-KW-4A

    發(fā)貨期限:

    三個(gè)工作日天

    庫(kù)       存:

    99999

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:CHINAPONY 中普尼

    型號(hào):CPN-KW-4A

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-涂膠設(shè)備-半自動(dòng)勻膠機(jī)

     勻膠機(jī)CPN-KW-4A型號(hào)簡(jiǎn)述:(小面積基片標(biāo)準(zhǔn)涂覆范圍)  品質(zhì)出眾 精湛工藝

    1,中普尼TM(CHINAPONYTM)勻膠機(jī)CPN-KW-4A型號(hào)為中普尼TM(CHINAPONYTM)公司CPN-KW系列最早推出的基礎(chǔ)型號(hào)勻膠機(jī)。其輕觸旋鈕控制,控制輕松方便,特點(diǎn)是雙轉(zhuǎn)速勻膠機(jī),兩檔轉(zhuǎn)速及其勻膠時(shí)間分別連續(xù)調(diào)節(jié),在啟動(dòng)后先低速運(yùn)轉(zhuǎn),經(jīng)幾秒鐘后自動(dòng)轉(zhuǎn)換到高速運(yùn)轉(zhuǎn),也可單獨(dú)使用低轉(zhuǎn)速或者高轉(zhuǎn)速,其優(yōu)點(diǎn)是轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速,并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性,其參數(shù)如下:

    Ⅰ檔 調(diào)速范圍:500 - 2500 RPM      Ⅰ檔 勻膠時(shí)間:2-18 s

    Ⅱ檔 調(diào)速范圍:1000-8000 RPM      Ⅱ檔 勻膠時(shí)間:3-60 s

    2,(1) LED數(shù)字顯示、直觀性強(qiáng),轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)以數(shù)字顯示為準(zhǔn).

      2)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±1% ,膠的均勻性:±3% .

    3,電源電壓:100V /60Hz 110V /60Hz 220V/ 50Hz

    4,真空泵抽氣速率70L/min

    5,儀器尺寸:210*220*160mm   重量:8KG

    6,適合:¢1-102mm4”及4”以下)硅片及其它化合物等材料薄膜. (備有各種規(guī)格真空吸盤選購(gòu)或者免費(fèi)特殊訂制真空吸盤)

    人性化設(shè)計(jì)與功能:外形設(shè)計(jì)優(yōu)雅,融合現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)理念,盡顯現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)高科技?xì)赓|(zhì)。

    DIY式工作腔體由特制進(jìn)口實(shí)心不銹鋼盛膠盤和特制進(jìn)口實(shí)心透明鋼化玻璃保護(hù)蓋組成。

    盛膠盤:由進(jìn)口實(shí)心不銹鋼采用一次性整體拉伸設(shè)計(jì)技術(shù)壓縮成型,因此無(wú)瑕疵、無(wú)縫隙、無(wú)死角、無(wú)痕、光滑、整齊對(duì)稱、美觀;其表面全部經(jīng)過(guò)CHINAPONY公司科技部微細(xì)工藝特殊處理,具有防污、防塵、防腐、易清洗等優(yōu)點(diǎn);同時(shí)其底面周邊緣向里呈弧形并根據(jù)人性化設(shè)計(jì)理念使其稍向下縱深,使其不僅方便移動(dòng)、拆卸,更方便光刻膠等膠液的回收與清洗,給您一個(gè)真正純凈的實(shí)驗(yàn)空間。

    保護(hù)蓋:采用進(jìn)口實(shí)心透明鋼化玻璃一次性壓縮制造加工成形,具有牢靠、耐用、美觀等優(yōu)點(diǎn),不僅方便工作人員直接觀察涂敷工作過(guò)程同時(shí)保證工作環(huán)境的衛(wèi)生與潔凈。

    真空吸盤采用高品質(zhì)材質(zhì)經(jīng)過(guò)整體高精度深度工藝加工而成,具有耐摔、易用、重量輕等優(yōu)點(diǎn),可以輕松地承載起實(shí)驗(yàn)基片,能更好的隨勻膠機(jī)旋轉(zhuǎn)涂敷基片,使基片所涂敷薄膜更均勻。

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