該設備主要用于清除硅(芯)片表面的廢屑、金屬離子等物質,是硅(芯)片生產(chǎn)過程中重要工序。設備主要技術特點:1.可靠的控制系統(tǒng);2.觸摸屏控制顯示 ;3.可設置和存儲工藝菜單;4.高壓去離子水泵5.噴頭H軸Y軸調(diào)節(jié)6.在線電阻率檢測水質;7.清洗后高純氮氣干燥模塊;8.自動排水裝置;9.對硅片定位框架的安全定位。設備的主要技術指標可按用戶要求定做。
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1.可靠的控制系統(tǒng);2.觸摸屏控制顯示 ;3.可設置和存儲工藝菜單;4.高壓去離子水泵5.噴頭H軸Y軸調(diào)節(jié)6.在線電阻率檢測水質;7.清洗后高純氮氣干燥模塊;8.自動排水裝置;9.對硅片定位框架的安全定位