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    濕法刻蝕顯影機EDC-650-23

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體清洗設(shè)備

    產(chǎn)品品牌

    LAURELL

    發(fā)貨期限：

    6-8周天

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    中國-上海市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：LAURELL

    型號：

    所屬系列：半導(dǎo)體清洗設(shè)備

     

     

     

     

    一、處理腔體

    1、處理腔體大?。篍DC-650-23 內(nèi)徑為9.5英寸 (241毫米)的杯型處理腔體；

                             EDC-650-8 內(nèi)徑為12.5英寸 (318毫米)的杯型處理腔體；

                             EDC-650-15 內(nèi)徑為14.6英寸 (371毫米)的杯型處理腔體；

    2、處理尺寸范圍：EDC-650-23 最大可處理直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片；

                              EDC-650-8 最大可處理直徑8英寸（203毫米）的晶圓片或者7x7英寸（176毫米）的方片；

                              EDC-650-15 最大可處理直徑12英寸（304毫米）的晶圓片或者9x9英寸（229毫米）的方片；

    3、樣片處理托盤：高性能天然聚丙烯材質(zhì)非真空式托盤，可承載2、3英寸及4英寸的晶圓片； 

    4、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實時進行可視化操作；

    5、腔體材質(zhì)說明：用特氟龍材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體；

     

    二、數(shù)顯控制器

    1、 數(shù)顯控制器：新一代650型高性能數(shù)顯控制器，非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段，（1-300RPM，重復(fù)性：±0.5RPM），可設(shè)置順序循環(huán)控制；

    2、 處理馬達：HPD-2高性能無刷式直流馬達（DC motor），迷宮式密封件（triple labyrinth seal）；

    3、 控制精度：數(shù)顯控制器采用高位計數(shù)光學(xué)編碼器輸出，高精度密封循環(huán)伺服控制器，經(jīng)美國國家標(biāo)準(zhǔn)研究院NIST認(rèn)證，實時顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi)（美國NIST激光測量器件的極限值）。系統(tǒng)無需重復(fù)校準(zhǔn)！

     

    三、分析軟件系統(tǒng)

    配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件，自配最先進的PC通訊接口，可添加新的功能指令，可視化操作，在半導(dǎo)體濕制程工藝中，可隨時跳躍式修改尚未完成的操作步驟。

    功能強大的分析軟件：

    1、可以為每個進程，每個部件（如制程程序段，閥門，傳感器和警報器）具體的命名；

    2、可以為每一個操作步驟添加詳盡的注釋；

    3、通過電腦可以輕松實現(xiàn)讀寫，更改，存儲，檢索，以及與任何已有的制程進行比對；

    4、流程通過形象的圖形進行可視化展示；

    5、基于Windows操作系統(tǒng)的所見即所得的用戶友好的圖形操作界面。

     

    四、自動滴膠系統(tǒng)

    UD-3帶倒吸裝置的多噴嘴可編程針筒（包含4個不同大小的針頭和40個針筒，5毫升&30毫升）；

     

    五、試劑循環(huán)分配系統(tǒng):

     

    試劑控制閥

    1、獨家專利技術(shù)的Teflon®控制閥；

    2、可調(diào)節(jié)式氮氣擴壓器，Teflon®控制閥；

    3、嵌入式構(gòu)造：適合與其他工藝系統(tǒng)實現(xiàn)無縫銜接；

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