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SFQ/SFQZ系列濕法設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導(dǎo)體材料加工、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域，用于各種半導(dǎo)體基片及類似材料制造過(guò)程中濕化學(xué)處理工藝，有手動(dòng)、半自動(dòng)及全自動(dòng)三種配置。

六大專有技術(shù)

濕法清洗設(shè)備系統(tǒng)集成技術(shù)

氣/液自動(dòng)傳輸及控制技術(shù)

材料與化學(xué)工程防護(hù)技術(shù)

溫度傳遞及精確控制技術(shù)

晶片自動(dòng)傳輸及自動(dòng)控制技術(shù)

溶液流場(chǎng)均勻性控制技術(shù)

主要技術(shù)特點(diǎn)：

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：設(shè)計(jì)緊湊、潔凈、防腐、安全、多種式樣機(jī)架可供選擇

控制方式：采用高性能PLC或工控機(jī)實(shí)現(xiàn)集中控制，結(jié)合單元功能控制簡(jiǎn)化操作

槽體配置：材料：NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不銹鋼等多種材料

功能：恒溫控制（加熱/制冷）、循環(huán)、過(guò)濾、自動(dòng)補(bǔ)液、抖動(dòng)、旋轉(zhuǎn)、超聲/兆聲、溢流、快排、鼓泡、干燥等

定制設(shè)計(jì)：根據(jù)用戶要求提供工藝配置及技術(shù)支持

ECD系列:

SFQ\DYX\ECD濕化學(xué)工藝設(shè)備

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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