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當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » UV光刻機 »NXQ紫外光刻機NXQ4006
    包郵 關(guān)注:677

    NXQ紫外光刻機NXQ4006

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    NXQ

    規(guī)格型號:

    發(fā)貨期限:

    3個月天

    庫       存:

    1

    產(chǎn)       地:

    美國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:NXQ

    型號:套

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機

     恩科優(yōu)(NXQ)4000系列半?自動掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了獨立的模塊化設(shè)計,精準(zhǔn)控制對準(zhǔn)和曝光等特點。自動程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。該系統(tǒng)以其卓越的性能,經(jīng)濟的價格,深受全球用戶喜愛,截止2011年底,超過4000臺NXQ光刻機遍布全世界的科研實驗室、研發(fā)中心和工業(yè)生產(chǎn)線。
    系列型號(根據(jù)曝光基片的尺寸范圍選擇合適的型號)
    NXQ4006 半自動型(可處理最大到6英寸的基片)
    NXQ4008 半自動型(可處理最大到8英寸的基片)
    適用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)
    微電子
    LED/HB LED
    3D IC/晶圓制造工藝
    2.5D Interposer
    MEMS
    BioMEMS
    微流控芯片
    化合物半導(dǎo)體
    太陽能(HCPV)
    光電子
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