恩科優(yōu)(NXQ)4000系列半?自動掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng),融合了獨立的模塊化設(shè)計,精準(zhǔn)控制對準(zhǔn)和曝光等特點。自動程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。該系統(tǒng)以其卓越的性能,經(jīng)濟的價格,深受全球用戶喜愛,截止2011年底,超過4000臺NXQ光刻機遍布全世界的科研實驗室、研發(fā)中心和工業(yè)生產(chǎn)線。
系列型號(根據(jù)曝光基片的尺寸范圍選擇合適的型號)
NXQ4006 半自動型(可處理最大到6英寸的基片)
NXQ4008 半自動型(可處理最大到8英寸的基片)
適用領(lǐng)域(包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝)
微電子
LED/HB LED
3D IC/晶圓制造工藝
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半導(dǎo)體
太陽能(HCPV)
光電子