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團簇型多室CVD沉積系統(tǒng) 北京北儀

團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)應用范圍：主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作
團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)技術特點：能在真空環(huán)境下連續(xù)處理多種CVD工藝過程
團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要技術參數(shù)：

團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

Cluster Multi-chamber CVD Deposition System

技術參數(shù)Parameter
真空室尺寸 Vacuum chamber size	主真空室尺寸：Server chamber	Φ760×270mm
	工作真空室尺寸： Workstation chamber	PECVD室	250×250×300mm
		VHFCVD室	510×250×300mm
		HWCVD室	550×250×300mm
	進出片室尺寸;Loading chamber	250×286×300mm
	主真空室工位數(shù)： Server position of server chamber	6
	工作真空室數(shù)： Number of Workstation chamber	5
真空系統(tǒng) Vacuum system	傳輸室：Server chamber	F150+D30C
	工作真空室： Workstation chamber	F100+D30C
	進出片室：Loading chamber	D30C
極限壓力 Ultimate pressure	傳輸室：Server chamber	5×10-4Pa
	工作真空室： Workstation chamber	5×10-5Pa
	進出片室：Loading chamber	5×10-1Pa
工件尺寸 Substrate size	工件最大尺寸： Maximum diameter	100×100mm
	工件最大重量：Maximum weight	2kg
	最大同時處理數(shù)量： Maximum loading capacity	4
操作 Operation	全自動+計算機流程控制 Fully automatic computer control	PLC控制 PLC control
氣路控制系統(tǒng) Gas system	全套進口件氣路 16路進口流量計進口變通導閥門 9路氣體（N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2） imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes (N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2 )

北京北儀創(chuàng)新真空技術有限責任公司（原北京儀器廠）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務區(qū)（CBD）的中心位置。生產基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質量體系認證。共有真空獲得、真空測量、真空應用三大類產品，從低真空到超高真空30多個系列160多個品種。產品廣泛地應用于航天航空、電子信息、光學產業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經過50多年對真空技術的探索，通過與全國多所大專院校、研究院所進行的多次合作開發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
在真空測量技術、真空獲得技術、光學多層全自動鍍膜技術、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術（DC、MC、RF濺射技術）以及PECVD技術等方面處于國內領先，并有多項科研成果獲得國家專利。近年來，為多個院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實驗室設備。在擁有成熟的真空技術的基礎上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內首條自行設計制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產線，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術，用于生產大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積，在相對低的設備投資下取得較高的大面積模板的產量，產品的性能指標達到國際同等水平，設備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū)，改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產線依靠進口的現(xiàn)狀。

北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅持“誠信精益”的企業(yè)精神，不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進技術，以“顧客先導持續(xù)改進”的價值觀在合作中實現(xiàn)共贏。

團簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作

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