服務(wù)熱線(xiàn)
4006988696
光學(xué)系統(tǒng):
曝光時(shí)間調(diào)解器:0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán);
聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo);
有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器;
全景準(zhǔn)直透鏡光線(xiàn)偏差半角: <1.84度;
波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置
抗衍射反射功能高效反光鏡;
二向色的防熱透鏡裝置;
防汞燈泄漏裝置;
配備蠅眼棱鏡裝置
配備深紫外光源,
--220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2
--254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2
--365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2
--400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2
主要配置:
6“,8”光源系統(tǒng)
可支持2“,3”,4“,6”,8“(圓/方片)及碎片光刻
手動(dòng)系統(tǒng),半自動(dòng)系統(tǒng), 自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外曝光
CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
主要性能指標(biāo):
光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity::
--<±1% over 2” 區(qū)域
--<±2% over 4” 區(qū)域
--<±3% over 6” 區(qū)域
接觸式樣曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um(驗(yàn)收指標(biāo))
接觸式樣曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.25 um(極限指標(biāo))
正面對(duì)準(zhǔn)精度±0.5um
支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻,特征尺寸:100um-300um
支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
支持真空、接近式、接觸式曝光
支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式
光刻線(xiàn)條特征尺寸:
應(yīng)用實(shí)例1:深紫外光源下0.25um線(xiàn)條
Scanning Electron Micrographs 電子顯微鏡圖像
Feature Sizes圖像尺寸0.25微米線(xiàn)條
采用TOK DUV 光刻膠,200nm光學(xué)鏡,光刻膠厚度0.45微米。曝光時(shí)間40秒。
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