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    ST-1500i投影光刻機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

    產(chǎn)品品牌

    國產(chǎn)-中科院

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：國產(chǎn)-中科院

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-其它光刻設備

     

    ST-1500i投影光刻機

    ST-1500i 投影光刻機
    ST-1500i 投影光刻機ST-1500i 投影光刻機

    主要技術指標：

    曝光場面積：10mm×10mm

    分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠）；

    套刻精度：1μm

    物鏡倍率：1：10

    掩模尺寸:4 inch、5 inch

    基片尺寸：2 inch、3 inch、4 inch、6 inch

    工件臺運動范圍：X：150mm、 Y：150mm；

    工件臺運動定位精度：±0.65μm；


    技術特點：

    采用CCD檢焦系統(tǒng)實現(xiàn)整場調(diào)平、自動逐場調(diào)焦或自動選場調(diào)焦曝光。10倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約10mm×10mm 采用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明，進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現(xiàn)精確工件定位和曝光拼接，可適應2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。具備對準和套刻功能，操作方便、實用性強。

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