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日本Certas WING 化學(xué)氣體干法刻蝕機(jī)

Certas Wing化學(xué)氣體干法刻蝕機(jī)

詳細(xì)介紹

“Certas WING”設(shè)計(jì)用于加工300mm晶圓，是Certas的第二代系統(tǒng)。這是一種環(huán)保，高產(chǎn)量的氣體化學(xué)蝕刻系統(tǒng)，可以在不使用清洗液的情況下進(jìn)行表面蝕刻和清洗。與濕式清潔相比，已經(jīng)完全干燥的處理單元不使用化學(xué)品，不需要昂貴的廢物處理設(shè)備，并且具有改進(jìn)的可維護(hù)性。它消除了水印，并提供了各種氧化膜蝕刻的獨(dú)特選擇比例，細(xì)微的界面清潔控制，與TEL清潔系統(tǒng)一起使用時(shí)具有更高的靈活性。它支持從批量生產(chǎn)到下一代開(kāi)發(fā)的廣泛應(yīng)用。

特征

獨(dú)特的氧化膜選擇性蝕刻和氣體化學(xué)品預(yù)處理

新的腔室設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了高吞吐量（大約兩倍）和小占用空間

無(wú)等離子處理可實(shí)現(xiàn)耗材的高正常運(yùn)行時(shí)間和低成本

應(yīng)用

氧化硅膜的蝕刻和回蝕

硅觸點(diǎn)預(yù)清洗

日本Certas WING 化學(xué)氣體干法刻蝕機(jī)

應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

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