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刻蝕，英文為Etch，它是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。
公司擁有離子束刻蝕、深硅刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕、聚焦離子束等刻蝕技術(shù)，滿足對硅、氧化硅、氮化硅、金屬、石英等材料的刻蝕。
服務(wù)流程：
客戶提出功能要求；
設(shè)計工程師進行結(jié)構(gòu)、尺寸和工藝設(shè)計；
確認設(shè)計方案、制備周期和價格；
開始制備；
交付產(chǎn)品。
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