服務熱線
4001027270
Activator 150
SiC和GaN退火及石墨烯生長
centrotherm Activator 150 高溫爐生產線專為硅-碳化合物(SiC)或鎵-氮化合物(GaN) 設備的后植入燒結而設計開發(fā)。Activator 150 可用于多種類型爐體, 如研發(fā)爐和批量生產爐, 且處理靈活性高。centrotherm 的無金屬加熱裝置的獨特設計允許處理溫度高達 1850 °C 同時縮短了工藝循環(huán)時間。由于占據(jù)空間小、購置成本低,所以 Activator 150 可實現(xiàn)生產具有成本效益。
高活化率
表面粗糙程度最小
溫度最高達 1850°C
批量規(guī)模高達 50硅片(150mm)
加熱率最高達 150 K/min
通過SiH4可實現(xiàn)硅“過壓
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