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一、擴散爐簡介
擴散爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。

二、擴散爐特點

1、軟著陸載片裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴散均勻性，同時槳的清洗周期大幅度延長。

2、高精度溫度控制，新型爐體設計，提高了溫度穩(wěn)定性，配合高精度溫控儀的使用，保證工藝過程中溫度的快速穩(wěn)定。

3、關鍵件采用進口管件，且為半導體級別；優(yōu)質(zhì)的元器件組合，從而保證成膜質(zhì)量。

三、擴散爐主要技術參數(shù)

◆工藝管數(shù)量：1-4管

◆工藝管口徑：Φ90value="360" numbertype="1" negative="True" hasspace="False">-360mm（3～12英寸）

◆結(jié)構(gòu)型式：臥式熱壁型、立式或其他形式，可根據(jù)客戶需求定制

◆工作溫度范圍：400～1280℃

◆恒溫區(qū)長度及精度±value=".5" numbertype="1" negative="False" hasspace="False">0.5℃/value="1080" numbertype="1" negative="False" hasspace="False">1080mm

◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆氣體流量設定精度:±1％F.S

◆氣路系統(tǒng)氣密性： 1×10-7pa.m3/s

◆超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）

噪音：≤62dB（A）

震動：≤3μm

◆控制方式：工業(yè)微機控制

◆記錄工藝曲線數(shù)量及工藝步數(shù)不受限制

北京晶伏華控電子設備有限公司可根據(jù)客戶需求定制各種非標：擴散爐、擴散爐控制系統(tǒng)、擴散爐多臺監(jiān)控系統(tǒng)、焊接爐、硒化爐、烤盤爐、氣氛爐、烤盤爐、焊接爐、真空爐、升華爐、隧道爐、氧化爐、退火爐、LPCVD爐、氫氣爐、工業(yè)爐體等各種工業(yè)、實驗電爐等高溫設備。專業(yè)團隊個性化定做，廠家直接供貨，歡迎廣大客戶來電來函。

擴散爐

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