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    包郵 關(guān)注:1856

    PVA TePla 微波等離子體去膠機(jī) IoN Wave 10

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    真空等離子清洗機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    PVA TePla

    發(fā)貨期限：

    90天天

    庫(kù)       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：PVA TePla

    型號(hào)：

    所屬系列：真空等離子清洗機(jī)

    PVA TePla微波等離子體去膠機(jī)

    IoN Wave 10 等離子體去膠機(jī)是PVA TePla 在微波等離子體處理工藝中的最新產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適用、性能先進(jìn)。其使用最新的、性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。其工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)最嚴(yán)格的質(zhì)量控制。占地面積小，安裝維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子體技術(shù)，該設(shè)備在提供極高的光刻膠灰化速度的同時(shí)，最大程度較低了產(chǎn)品暴露在靜電中風(fēng)險(xiǎn)。

    型號(hào)：IoN Wave 10， PS210,

    典型應(yīng)用：

    去除光刻膠 Photo-resist stripping

    去除殘膠 Wafer descum

    晶圓和襯底的清潔 Wafer and substrate cleaning

    su-8灰化 Su-8 ashing

    氮化硅、聚酰亞胺等的刻蝕 Etching of silicon nitride, pi, etc.

    刻蝕鈍化層 Etching of passivation layers

    逆向分析/失效分析中的器件開封 Device decapsulation for failure analysis

    微量分析中低溫材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysision_wave_10_stripe11

    過濾器和薄膜的清潔 Cleaning of filters and membranes

     


    規(guī)格參數(shù)：

    2.45GHz風(fēng)冷微波電源（0～600w可調(diào)），

    石英或陶瓷腔體，

    防腐蝕不銹鋼MFC,

    多至6路氣體，

    兼容8英寸及以下晶圓

    PC 工控機(jī)控制，運(yùn)行數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)；分級(jí)控制權(quán)限，防止操作

    圖形化觸控屏界面，運(yùn)行狀態(tài)圖形化實(shí)時(shí)顯示。

    自動(dòng)/手動(dòng)隨意切換

    可選配法拉第桶

    可選配溫控系統(tǒng)

    可選配壓力控制系統(tǒng)

    外形尺寸：775×749×781 mm

     


    認(rèn)證：

    CE 認(rèn)證

    EN 61010

    EN 61326

    Semi E95

    ISO 9001

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