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    JP系列鍍膜機(jī)適用于企業(yè)批量化生產(chǎn)高致密度高結(jié)合力薄膜

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-磁控濺射機(jī)

    產(chǎn)品品牌

    北京北儀

    規(guī)格型號(hào)：

    JP系列鍍膜機(jī)

    庫(kù)       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國(guó)-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    ￥1.00
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：北京北儀

    型號(hào)：JP系列鍍膜機(jī)

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-磁控濺射機(jī)

    JP系列鍍膜機(jī)適用范圍：
    適用于企業(yè)批量化生產(chǎn)高致密度高結(jié)合力薄膜。
    JP系列鍍膜機(jī)技術(shù)特點(diǎn)：
    配備DC或RF磁控濺射源，側(cè)面濺射，可濺射金屬和介質(zhì)材料；濺射靶可方便清潔和更換；工件架鼠籠式多邊型結(jié)構(gòu)或公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，裝夾量大，適應(yīng)性強(qiáng)。

    主要技術(shù)性能參數(shù)：

    型號(hào)Model
    參數(shù)Parameter
    JP-700
    JP-900
    濺射室尺寸∕mm
    Φ700×860
    Φ900×1200
    濺射方向
    側(cè)面濺射
    濺射室類(lèi)型
    立式前開(kāi)門(mén)方式
    極限壓力∕Pa
    5×10-4
    抽氣時(shí)間∕min
    從1×105Pa至2×10-3Pa≤20
    濺射工作壓力∕Pa
    10-10-1
    真空系統(tǒng)
    油擴(kuò)散泵系統(tǒng) 氣動(dòng)閥門(mén)
    濺射靶尺寸∕mm
    80×740
    120×1050
    濺射靶數(shù)量
    1個(gè)或2個(gè)
    靶電源功率∕kWS
    1套DC10
    1套DC25
    工作旋轉(zhuǎn)∕r•min-1
    3-12
    工件盤(pán)直徑∕mm
    -
    -
    烘烤溫度∕
    室溫至300 可調(diào)
    工藝氣體控制方式
    一套質(zhì)量流量控制器，一套自動(dòng)壓強(qiáng)儀
    冷卻水流量∕L•min-1
    20
    25
    水壓∕kPa
    2.5×105
    進(jìn)水溫度∕℃
    ≤25
    壓縮空氣∕kPa
    （5-8）×105
    用電功率∕kW
    25
    60
    占地面積∕mm
    寬×深×高
    2000×2500×2100
    2500×3000×2300


       北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司（原北京儀器廠(chǎng)）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務(wù)區(qū)（CBD）的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過(guò)ISO-2000質(zhì)量體系認(rèn)證。共有真空獲得、真空測(cè)量、真空應(yīng)用三大類(lèi)產(chǎn)品，從低真空到超高真空30多個(gè)系列160多個(gè)品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過(guò)50多年對(duì)真空技術(shù)的探索，通過(guò)與全國(guó)多所大專(zhuān)院校、研究院所進(jìn)行的多次合作開(kāi)發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國(guó)真空行業(yè)的前沿。
        在真空測(cè)量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動(dòng)鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)（DC、MC、RF濺射技術(shù)）以及PECVD技術(shù)等方面處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先，并有多項(xiàng)科研成果獲得國(guó)家專(zhuān)利。近年來(lái)，為多個(gè)院校、研究院所開(kāi)發(fā)制造多臺(tái)用于研究薄膜太陽(yáng)能電池的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國(guó)內(nèi)首條自行設(shè)計(jì)制造的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(xiàn)，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù)，用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積，在相對(duì)低的設(shè)備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量，產(chǎn)品的性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同等水平，設(shè)備銷(xiāo)往廣東、福建、浙江等地區(qū)，改變了以往我國(guó)非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線(xiàn)依靠進(jìn)口的現(xiàn)狀。

    北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅(jiān)持“誠(chéng)信 精益”的企業(yè)精神，不斷汲取客戶(hù)的建議及業(yè)界的先進(jìn)技術(shù)，以“顧客先導(dǎo) 持續(xù)改進(jìn)”的價(jià)值觀在合作中實(shí)現(xiàn)共贏。

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